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資料情報
各蔵書資料に関する詳細情報です。
No. |
所蔵館 |
資料番号 |
請求番号 |
配架場所 |
帯出区分 |
状態 |
貸出
|
1 |
県立長野図 | 0103377933 | 549.8/オヒ/ | 書庫 | 帯出可 | 在庫 |
○ |
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書誌詳細
この資料の書誌詳細情報です。
タイトルコード |
1009910001944 |
書誌種別 |
図書一般 |
著者名 |
大野 英男/編著
|
著者名ヨミ |
オオノ ヒデオ |
出版者 |
コロナ社
|
出版年月 |
1999.2 |
ページ数 |
265p |
大きさ |
22cm |
ISBN |
4-339-00704-8 |
分類記号 |
549.8
|
書名 |
半導体結晶成長 |
書名ヨミ |
ハンドウタイ ケッショウ セイチョウ |
内容紹介 |
1.走査型トンネル顕微鏡によるシリコン固相エピタキシー過程のその場観察 2.Si-Ge系のCVDエピタキシーと原子層成長制御 3.GaAsの単分子成長機構 ほか8章 |
内容細目
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